濺射靶材是一種用于材料成膜的材料，其主要成型工藝有熱等靜壓成型、熔煉鑄造、粉末燒結等方法，選擇方式主要依賴于材料自身的特性。

一般情況下，金屬靶材采用真空熔煉工藝制備；合金靶材用粉末冶金的方法制備；陶瓷靶材用熱壓燒結的方法的比較多。

純度是濺射靶材的基礎。高純度濺射靶材的應用領域有：電子及信息產業、玻璃鍍膜領域、太陽能、半導體行業、耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業。

濺射靶材的主要分類：

1.金屬靶材 2.合金靶材 3.陶瓷化合物靶材

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